设备原理与技术特性
温度范围覆盖 - 65℃~150℃,满足不同级别半导体芯片的测试需求
高低温转换时间≤15 秒,温度恢复时间≤5 分钟,确保冲击强度与效率
测试箱内温度均匀性≤±2℃,温度偏差≤±3℃,保证芯片各区域受热均匀
配备 96 组可独立设定的试验规范,支持 1~999 次循环测试,满足不同可靠性等级要求
采用复迭式制冷系统与镍铬合金螺纹电加热器,结合环保制冷剂 R507、R23,实现高效控温
Grade 0 级(最高等级):-40℃(低温保持 1 小时)→150℃(高温保持 1 小时)
循环次数:1000 次(等效汽车 15 年使用寿命)
性能评估指标:功能完好率 100%,参数漂移≤5%,键合强度保持率≥90%
温度冲击范围:-55℃→125℃,每区间保持 30 分钟
循环次数:500 次
重点监测:高低温启动性能,高温工作稳定性,低温功耗变化
温度冲击范围:-40℃→85℃,每区间保持 20 分钟
循环次数:200 次
评估重点:存储数据稳定性,接口信号完整性,封装外观变化
测试流程需实现环境控制与电性能监测的动态同步。样品准备阶段需完成三项关键操作:将芯片按实际应用电路搭建测试工装,确保散热条件与实际一致;在芯片表面粘贴微型热电偶,监测结温变化;通过测试孔连接示波器、万用表等设备,实时采集电性能参数。测试环境需控制在室温 25℃左右,空气湿度不超过 85%,避免环境因素影响测试结果。
键合线疲劳断裂:铝线在 - 65℃~150℃冲击下,经 300 次循环后易出现颈部断裂,金丝键合可靠性更高但成本也更高
封装分层:塑封料与芯片间因热膨胀系数差异,在 800 次循环后出现微裂纹,导致散热性能下降 30% 以上
焊点开裂:BGA 封装焊点在温度冲击下发生蠕变,1000 次循环后焊点导通电阻增加 15%~20%
工作电流从 20mA 增至 23mA,漏电电流增加约 2 倍
时钟频率稳定度从 ±1% 降至 ±3%
ADC 转换精度误差从 0.5LSB 增至 1.8LSB
低温 (-40℃) 启动时间从 10ms 延长至 35ms
采用金丝键合替代铝丝键合,提升连接可靠性,使循环寿命从 500 次提升至 1200 次
选用低应力封装材料,将热膨胀系数从 18ppm/℃降至 12ppm/℃,减少界面应力
优化芯片布局,将功率器件分散布置,降低局部热应力集中
高温区保持时间超过 45 分钟,会导致 MEMS 结构漂移量增加
-55℃冲击时,芯片启动电压需提高 0.5V 才能保证可靠启动
解决方案:增加芯片内置加热膜,优化 MEMS 结构锚定设计,提高低温启动稳定性
测试效率优化方面,三箱式设备的多程式设计优势显著:采用分组测试法可同时评估 6 种不同封装的芯片样品;通过预设温度曲线的阶梯测试法,将 1000 次循环的测试周期从传统设备的 60 天缩短至 45 天;引入机器学习算法,基于前 300 次循环数据可提前预测最终可靠性指标,准确率达 88%。
测试前需对芯片进行 24 小时常温老化,消除初始应力影响测试结果
样品固定方式应模拟实际 PCB 安装状态,避免因散热条件改变导致测试偏差
对于射频芯片,需在冲击测试中同步施加射频信号,监测频率漂移与功率变化
测试环境应保持洁净,避免灰尘进入设备影响温度均匀性
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